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ICS31.030 L90 中华人民共和国国家标准 GB/T29844—2013 用 于先进集成电路光刻工艺综合 评估的图形规范 Specificationsformetrologypatternsforthe evaluationofadvancedphotolithgraphy 2013-11-12发布 2014-04-15实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会发布 中华人民共和国 国家标准 用于先进集成电路光刻工艺综合 评估的图形规范 GB/T29844—2013 * 中国标准出版社出版发行 北京市朝阳区和平里西街甲2号(100013) 北京市西城区三里河北街16号(100045) 网址:www.gb168.cn 服务热线:010-51780168 010-68522006 2014年1月第一版 * 书号:155066·1-47943 版权专有 侵权必究 前 言 本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。 本标准起草单位:上海华虹NEC电子有限公司。 本标准主要起草人:王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。 ⅠGB/T29844—2013
GB-T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
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