(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211512963.0 (22)申请日 2022.11.30 (71)申请人 常州微亿智造科技有限公司 地址 213000 江苏省常州市星港路58号 二 号厂房 申请人 深圳微亿智造科技有限公司 (72)发明人 霍天成　李子豪　李惠芬　潘正颐　 侯大为　 (74)专利代理 机构 上海段和段律师事务所 31334 专利代理师 郭国中 (51)Int.Cl. G01N 21/88(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)发明名称 基于光学相干层析的缺陷检测方法及系统 (57)摘要 本发明提供了一种基于光学相干层析的缺 陷检测方法及系统， 包括： 通过表面设置有半透 半反射膜的一维振镜， 将第一光源发出的测量光 反射至扫描透镜， 测量光通过扫描透镜照射在被 测物上； 通过第二光源输出的光照射在被测物 上； 从被测物反射的反射光依次通过扫描透镜进 入一维振镜， 通过半透半反射膜将反射光中的测 量光反射并与参考光相干干涉， 得到光学相干层 析结果， 通过半透半反射膜透射反射光中第二光 源输出的光； 将透射的第二光源输出的光汇聚至 成像装置进行成像； 通过光学相干层析结果进行 缺陷检测， 用成像的结果进行实时监测、 参考。 本 发明既可分析待测样品的深度信息， 又可直观对 样品表面进行成像， 使其可以满足更多不同类型 的检测场景。 权利要求书2页 说明书6页 附图1页 CN 115541599 A 2022.12.30 CN 115541599 A 1.一种基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特 征在于， 包括： 测量光提供步骤： 通过表面设置有半透半反射膜的一维振镜 （3） ， 将第 一光源发出的测 量光反射至扫描透 镜 （5） ， 测量 光通过扫描透 镜 （5） 照射在被测物上； 光场提供步骤： 通过第二 光源 （6） 输出的光照射在被测物上； 干涉、 汇聚步骤： 从被测物反射的反射光依次通过扫 描透镜 （5） 进入一维振镜 （3） ， 通过 所述半透半反射膜将反射光中的所述测量光反射并与参考光相干干涉， 得到光学相干层析 结果， 通过 所述半透半反射膜透射反射 光中所述第二 光源 （6） 输出的光； 成像步骤： 将透射的所述第二 光源 （6） 输出的光汇聚至成像装置 （8） 进行成像； 缺陷检测步骤： 通过所述光学相干层析结果进行缺陷检测， 用成像的结果进行实时监 测、 参考。 2.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 所述第 一光 源输出的光通过外接光纤耦合进入 所述一维振镜 （3） ， 并通过光纤准直器 （1） 对所述第一光 源进行准 直。 3.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 所述第 一光 源输出的光入射至所述 一维振镜 （3） 的轴心。 4.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 所述扫描透 镜 （5） 和所述 一维振镜 （3） 枢纽点间的距离与所述扫描透 镜 （5） 自身的扫描距离相等。 5.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 通过成像透 镜 （7） 将透射的所述第二 光源 （6） 输出的光汇聚至成像装置 （8） 进行成像； 所述成像透镜 （7） 和所述成像装置 （8） 之间具有预设距离， 所述预设距离能够使得各视 场的光在到 达所述成像装置 （8） 感光 面处的RMS值 最小。 6.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 所述半透半 反射膜包括双色介质膜。 7.根据权利要求1所述的基于光学相干层析的缺陷检测方法， 其特征在于， 所述第 二光 源输出的光包括绿光。 8.一种基于光学相干层析的缺陷检测系统， 其特征在于， 包括： 第一光源、 一维振镜 （3） 、 扫描透 镜 （5） 、 第二 光源 （6） 、 成像透 镜 （7） 和成像装置 （8） ； 所述扫描透镜 （5） 和所述成像透镜 （7） 分别位于所述一维振镜 （3） 两侧的光轴上， 所述 成像装置 （8） 位于所述成像透镜 （7） 外侧， 所述一维振镜 （3） 的振镜表面设置有对所述第一 光源波长反射， 且 对所述第二 光源 （6） 波长增透的半透半反射膜； 所述第一光源输出的光通过所述一维振镜 （3） 反射进入所述扫 描透镜 （5） 后， 照射在被 测物上， 所述第二 光源 （6） 输出的光照射在被测物上； 从被测物反射的所述第一光源的光通过所述扫描透镜 （5） 进入所述一维振镜 （3） 反射， 与参考臂的参考光相干干涉， 得到光学相干层析结果； 从被测物反射的所述第二光源 （6） 的 光依次透过所述扫描透镜 （5） 、 所述一维振镜 （3） 和所述成像透镜 （7） 汇聚进入所述成像装 置 （8） 参与成像； 所述基于光学相干层析的缺陷检测系统通过所述光学相干层析结果进行缺陷检测， 用 成像的结果进行实时监测、 参 考。 9.根据权利要求8所述的基于光学相干层析的缺陷检测系统， 其特征在于， 所述第 一光权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115541599 A 2源输出的光通过外接光纤耦合进入 所述一维振镜 （3） ， 并通过光纤准直器 （1） 对所述第一光 源进行准 直； 所述扫描透镜 （5） 和所述一维振镜 （3） 枢纽点间的距离与所述扫 描透镜 （5） 自身的扫 描 距离相等； 所述成像透镜 （7） 和所述成像装置 （8） 之间具有预设距离， 所述预设距离能够使得各视 场的光在到 达所述成像装置 （8） 感光 面处的RMS值 最小； 所述第二 光源 （6） 包括环形光源， 所述环形光源同轴设置在所述扫描透 镜 （5） 的外周； 所述第二 光源输出的光包括绿光。 10.根据权利要求8所述的基于光学相干层析的缺陷检测系统， 其特 征在于， 还 包括： 工作台 （10） ， 用于放置被测物； 立柱 （12） ， 连接在所述工作台 （10） 上， 所述基于光学相干层析的一维扫描成像系统滑 动连接在所述 立柱 （12） 上； 保护板， 设置 于所述一维振镜 （3） 的轴心四周。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115541599 A 3