ICS 71.040.50 CCS N 33 中华人民共和国国家标准 GB/T 43748—2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的 测定方法 Microbeam analysisTransmission electron microscopy- Method for measuring the thickness of functional thin films in integrated circuit chips 国家标准全文公开系统专用，此文本仅供个人学习、研究之用， 未经授权，禁止复制、发行、汇编、翻译或网络传播等，侵权必究。 全国标准信息公共服务平台：https//std.samr.gov.cn 2024-03-15发布 2024-10-01实施 国家市场监督管理总局 发布 国家标准化管理委员会 GB/T 43748—2024 目 次 前言 引言 范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义 符号和缩略语 4 5 方法原理 6 仪器设备 7 试样 试验步骤 9 测量结果的不确定度评定 10 试验报告· 附录A（资料性）SiN薄膜层厚度测量结果的不确定度评定示例 参考文献 10
GB-T 43748-2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法
文档预览
中文文档
15 页
50 下载
1000 浏览
0 评论
309 收藏
3.0分
温馨提示：本文档共15页，可预览 3 页，如浏览全部内容或当前文档出现乱码,可开通会员下载原始文档
本文档由 人生无常 于 2024-05-04 12:12:08上传分享
GB-T 43748-2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法
